IPRI - www.ipri.kiev.ua -  IPRI - www.ipri.kiev.ua -

Субмікрон-2

«Дослідити та розробити технологію формування субмікронних структур сфокусованим лазерним випромінюванням» 

шифр «Субмікрон-2»

Метою роботи є розробка технології лазерного запису субмікронних структур для систем зберігання інформації та оптоелектронних пристроїв. Створення сучасних систем позиціювання оптичних головок станції на базі мікропроцесорних систем керування. Розробка методів зменшення вібраційного впливу середовища на створення мікрорельєфних структур шляхом запису сфокусованим лазерним випромінюванням.

В результаті виконання роботи повинні бути досліджені та розроблені:

  1. Методи побудови мікропроцесорних систем позиціювання оптичної головки системи фокусування лазерного випромінювання.

  2. Методи формування субмікронних структур на поверхні оптично прозорих підкладок.

  3. Провести аналіз вібраційного впливу середовища на процес створення мікрорельєфних структур та розробити методи по зменшенню даного впливу.

  4. Методи створення систем фокусування лазерного випромінювання напівпровідникових лазерів з контролем потужності лазерного випромінювання.

  5. Вібраційна модель середовища, оцінка впливу вібрацій на параметри мікрорельєфних структур, а також методи зменшення та нейтралізації такого впливу.

Лазерна літографія є ефективним методом формування субмікронних структур. Ця технологія є основою створення оптичних носіїв різного призначення, в тому числі для систем довготермінового зберігання інформації. Проблема надійного і довгострокового зберігання великих обсягів даних на всіх етапах розвитку людства завжди була однією з найважливіших задач, і для її вирішення використовувалися різні типи систем запису інформації. Особливо актуальною ця науково-технічна задача постала в наш час, коли для зберігання документів найчастіше використовується саме цифрова форма подання інформації. Обсяги інформації, представленої в цифровій формі, постійно збільшуються не тільки за рахунок нової інформації, яка в більшості випадків вже має електронну форму подання, а й за рахунок переведення в цифрову форму раніше створених інформаційних ресурсів. Системи прямого лазерного запису можуть використовуватися при створенні оптоелектронних пристроїв різного призначення, в тому числі дифракційних оптичних елементів, різноманітних датчиків, дифракційних граток, біосенсорів тощо. Основою лазерних літографічних систем є пристрої високоточного переміщення за визначеним законом оптичної головки фокусування лазерного випромінювання. Необхідно розробити мікропроцесорні системи позиціювання, які дозволять створювати структури з визначеним кроком ліній, які утворюють дифракційну структуру.

Процес виготовлення субмікрорельєфних і нанорельєфних структур безпосередньо пов'язаний з характеристиками середовища. Говорячи про точність позиціонування джерел когерентного випромінювання на рухому поверхню, необхідно зважати на рівень вібрацій природного чи промислового походження. Типова амплітуда вертикальних і горизонтальних вібрацій у м. Києві досягає 5 мкм у смузі частот 0,1-20 Гц. Такі вібрації негативно впливають на точність систем фокусування і позиціонування. Таким чином необхідно розробити методи зменшення чи усунення вібраційного впливу середовища на створення субмікрорельєфних структур.